• IEDM会议：摩尔定律将在14nm节点遭遇严重挑战

    bolvar 发布于2012-12-12 10:48 / 关键字： IEDM, IEMC, 摩尔定律, Moore’s Law, EUV

    　　作为半导体产业的黄金法则，摩尔定律已被多次挑战，但是技术进步也使得这一法则继续前进，不过正在召开的IEDM国际电子设备会议上与会专家称在未来的14nm工艺节点上很有可能发生更大的变化，摩尔定律再次遇到挑战。 　　比利时微电子研究中心IMEC总裁范登霍夫（Luc van den Hove）对EETimes表示，芯片制造商现在就需要为14nm节点选择合适的印刷工艺，不过在2014年EUV（extreme ultraviolet极紫外光）印刷工艺完成之前这几乎是不可能的。

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